近日，美国商务部工业安全局（BIS）以涉军等多项理由，将25家中国企业列入。

而就在同一天，荷兰政府正式宣布，将针对先进半导体制造设备的出口管制措施进行重要修改，进一步扩大管制范围。

该修正法案将于2025年4月1日生效，但该法规生效之日之前的先进半导体生产设备法规将继续适用之前授予的许可证。该出口管制措施是自2023年9月1日推出以来的第二次修订。 

此次修改制主要涉及先进制程中特定的量检测设备、沉积设备和计算光刻软件等。

1、外延设备：Si、GeSi外延设备 

2、ALD设备：金属Mo/Ru ALD设备、TiAlC ALD沉积设备、高深宽比PEALD设备 

3、CVD设备：高深宽比PECVD设备、金属W/Mo CVD沉积设备 

4、量检测设备：小于等于21nm精度的检测设备（含有采用波长小于400nm光源/分辨率小于1.65nm/两个或多个电子束源/冷场发射电子束源），用于显影后或刻蚀后测量晶圆对准精度的设备。

5、计算光刻软件：用于开发或生产DUV光刻掩膜的计算光刻软件

受限制的光刻机包括：

1、DCO套刻精度小于等于1.5nm的DUV及更先进的EUV光刻机，对应ASML 2000i型号及以上； 

2、DCO套刻精度1.5nm＜DCO≤2.4nm的DUV光刻机，对应ASML 1980i/1970i型号

总体来说，国产光刻机追赶海外先进水平的道路并不平坦，但不可否认已经取得了国产替代的重要突破。并且光刻机零部件、整机厂商也在持续加码研发投入，相关产业链发展空间广阔，国产光刻机产业链值得关注。题材逻辑说

整机

张江高科：持股10.779%的股份；

上海电气：母公司为第一大股东；

东方明珠：通过间接持股

奥普光电：长春光机所为公司实际控制人，长春光机所生产光刻机。

光源

波长光电：光刻机平行光源系统；

茂莱光学：精密光学器件已应用于国产光刻机；

福晶科技：全球最大LBO、BBO非线性光学晶体生产商。

光学器件

腾景科技：多波段合分束器已进入微电子供应链；

苏大维格：向提供光刻机用的定位光栅产品；

炬光科技：提供光刻机曝光系统里面核心元器件光场匀化器；

京华激光：控股国外公司在光刻机微结构光学方面实力较强；

晶方科技：下属荷兰ANTERYON公司服务国际领先光刻机厂商。

洁净设备

蓝英装备：精密清洗设备面向高端芯片制造行业企业客户；

美埃科技：提供最高洁净等级标准的设备，国外企业供应商白名单；

国林科技：产品用于CVD、ALD、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除等工艺中。

温控

海立股份：微电子装备集团的系统级合作商

同飞股份：液体恒温设备应用于光刻机等领域的温度控制

物镜

赛微电子：光刻机厂商的MEMS透镜部件供应商。

控制器

电科数字：子公司可供货光刻机控制器。

结构件

金力泰：超微弧氧化技术可应用于光刻机设备零部件的表面处理；子公司是供应商。

维修服务

东方嘉盛：提供光刻机寄售维修服务。