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氟化氩光刻机概念股
金银岛 / 09月15日 21:32 发布
1.设备股:北方华创、中微公司、盛美上海、至纯科技、长川科技、华峰测控
2.氟化氩(ArF)材料光刻胶:彤程新才、上海新阳、晶瑞电材、华懋科技、南大光电
近日工信部公布我国在氟化氩光K机领域的重大突破,实现“刻套8nm”意味着该光K机在多重曝光过程中能达到的最高精度为8纳米。这意味着该光K机可以生成28纳米的芯片,因为按照套刻精度与量产工艺1:3的关系,这个光K机大概可以量产28nm工艺的芯片。以后在28nm以上的工艺我们可以完全实现了国产生产。
更高端的5nm、7nm光刻机需要极光EUV光K机。在这个领域我们还需要不断深耕。
但氟化氩光K机研制成功也是一个巨大的里程碑。对光K机领域相关个股也是一个极大利好。