核心逻辑：行业景气度高 + 国产替代

近期，电子材料市场研究公司TECHCET预测，2021年，半导体制造所需的光刻胶市场规模将同比增长11%，达到19亿美元。由于全球晶圆代工产能不足，产能扩充一直在进行中，随之光刻胶市场也将保持稳定增长，根据TECHCET的数据，2021-2025年，全球光刻胶市场复合增长率约为5.74%。

近年来，国内光刻胶关键技术不断突破，如上海新阳的干法ArF光刻胶已经进入产能建设阶段，南大光电的ArF光刻胶已通过客户认证，同时，国内半导体产能快速扩展和供应链自主可控的需求也为光刻胶行业带来了发展机遇，2020年光刻胶龙头晶瑞股份光刻胶业务营收增长16.98%，增速远超往年，为2018年以来最高，显示行业景气度较高。

今天柚子就要盘点下未来5年最具潜力的3大光刻胶龙头，看好国产替代逻辑。

一、晶瑞股份

核心逻辑：进口替代助力业绩增长，国产光刻胶核心标的。

晶瑞股份是国内技术领先的微电子化学品龙头，产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池粘结剂等。

半导体材料国产替代进程加速，公司业绩大幅提升。近年来受到西方国家对中国实施技术封锁等国际竞争环境的影响，半导体国产替代已成为行业共识，2020年公司主导产品半导体级光刻胶及配套材料、超净高纯试剂等市场份额稳步增长，产能逐步释放，核心产品光刻胶及配套材料的销售取得历史最好成绩，全年实现营收1.79亿元，同比增长16.98%。

公司拥有达到国际先进水平的光刻胶生产线，高端KrF光刻胶完成中试，ArF高端光刻胶研发工作已启动。公司作为国内光刻胶领域的先驱，产品技术水平和销售额处于国内领先地位，承担并完成了国家重大科技项目02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目，拥有达到国际先进水平的光刻胶生产线和国家02专项资助的一流光刻胶研发和评价实验室。

柚子认为，随着国产半导体和面板产业链格局转变，配套国产材料供应体系有望加速发展，基于公司技术积累、与头部客户深度合作关系以及产能规模化优势，未来有望持续受益。

二、上海新阳

核心逻辑：半导体业务驱动21Q1经营业绩高增长，购买光刻机布局高端光刻胶项目。

上海新阳为拓展业务范围及产品应用领域，投资设立控股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司进行193nm（ArF）干法光刻胶研发及产业化项目。

21Q1经营业绩同比大幅增长。21Q1扣非净利润2200-2300万元，同比增加132%-142%，主要原因是集成电路制造用关键工艺化学材料业务销售同比增长60%。

长期来看，公司战略布局集成电路制造用高端光刻胶项目。公司拟募资开发集成电路制造中ArF干法工艺使用的光刻胶和面向3DNAND台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶产品，力争于2023年前实现上述产品的产业化。公司预计KrF厚膜光刻胶2021年开始实现少量销售，2022年可实现量产，预计ArF（干式）光刻胶项目在2022年可实现少量销售，2023年开始量产，预计当年各项产品销售收入合计可达近2亿元。

购买光刻机用于高端光刻胶项目的研发。（1）上海新阳自立项开发193nm ArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备，该光刻机已于2020年底前运抵国内。该光刻机设备于21年3月已进入合作方北方集成电路技术创新中心（北京）有限公司场地，后续将进行安装调试等相关工作。（2）上海新阳持有38%股权的子公司芯刻微购得ASMLXT 1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。

柚子认为，上海新阳是中国集成电路制造和封测关键工艺材料龙头企业，已是中芯、长存、长鑫、长电、通富、华天等半导体制造封测企业核心供应商，有望充分受益行业发展。

三、南大光电

核心逻辑：ArF光刻胶认证通过，国产材料持续推进。

南大光电主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售。公司设立光刻胶事业部，并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”，全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”的落地实施。

ArF光刻胶认证通过，国产替代龙头进阶在即。南大光电所推进的光刻胶自主自制，关键原材料同样受到日美竞争对手的遏制，用于前道制程的酚醛树脂以及很多中间体材料必须自主研制开发，决定光刻性能的诸多关键数据也只能靠自身不断摸索与积累，这是近乎于从无到有的挑战。能够通过下游客户的使用与认证，不仅仅是公司在光刻胶这一单一产品上的成功，更是从上游原材到中间制程的全面进化。

柚子认为，南大光电ArF光刻胶顺利通过客户验证，对企业发展来说，仅仅是一小步，但对半导体核心技术国产化来说，却是一大步，意义鲜明

目前国内高端193 nm ArF光刻胶产品还处于研发状态，与业内最为先进的光刻胶公司还存在着不小的差距。我国半导体材料的全球产能占比相对于国内半导体材料的全球市场规模占比而言还存在着很大的提升空间。

期待国内光刻胶公司早日实现技术突破，实现高端半导体光刻胶的国产替代。

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