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国产光刻胶概念股

zmx838   / 2020-07-12 12:35 发布

       ASML 是全球光刻设备的龙头企业,市占率达到了75%,而在极紫外光刻设备方面,ASML已经垄断了全球市场。目前制造7nm以下制程的芯片必须要用到ASML的光刻机。中国芯片代工龙头中芯国际前年订购了一台可以制造7nm以下芯片的ASML的光刻机,由于受到美国的阻拦到目前没到货,所以现在只能制造14nm制程的芯片。

一、ASML(荷兰光刻机制造商阿斯麦公司)的供货商

1、蓝英装备 :光刻机零部件。公司瑞士子公司UCM AG主要为光学和精密仪器行业提供清洗设备。对于精密光学、医学工程、精密机械以及PVD、CVD 涂层前清洗等典型的清洁度要求最高的应用领域,公司在精密清洗业务板块的代表产品UCM系统可提供全套个性化的设备及解决方案。凭借行业领先的技术实力,UCM AG为ASML(荷兰光刻机制造商阿斯麦公司)及其供应商提供极紫外光刻机(EUV)的光学系统相关关键部件的清洗设备。 

2、晶方科技       2020年6月11日互动平台回复:荷兰光刻机制造商ASML为公司参与并购的荷兰Anteryon公司的最主要客户之一。   

3、景旺电子       2020年6月11日互动平台回复:公司产品已供应给ASML公司。

4、赛微电子       2020年5月30日互动平台回复:公司一直为全球光刻机巨头厂商提供透镜系统MEMS部件的工艺开发与晶圆制造服务。

5、福晶科技       2020年4月24日公司在互动平台称:公司有通过欧洲代理和ASML签署保密协议,已提供部分产品。

二、和国内拥有ASML的企业有关联的公司

1、彤程新材  4  光刻胶   公司全资子公司彤程电子受让科华微电子33.70%的股权,已于2020年7月2日完成了相关工商变更登记。北京科华微电子成立于2004年8月,是国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司,是集光刻胶研发、生产、检测、销售于一体的中外合资企业,也是国内唯一一家拥有高档光刻胶自主研发及生产实力的国家级高新技术企业。 

2、高盟新材    光刻胶  和有ASML光刻机的公司有关

2019年11月8日公司在互动平台称:公司参股的科华微电子是国内拥有并正常使用荷兰ASML光刻机的光刻胶公司。

三、和国内先进光刻机相关的公司

1、奥普光电     2020年5月31日互动平台回复:公司大股东长春光机所正在研发更高水平的光刻机曝光系统。  

2、张江高科     全资子公司张江浩成此次向微装公司投资人民币 223,450,000 元,投资完成后,张江浩成将持有微装公司 10.779%的股权。微装公司是国内唯一一家研发、生产以及销售高端光刻机的企业,也是全球第四家生产IC前道光刻机的企业。微装公司拥有发明专利1442项,是国内工业4.0、先进制造、智能制造的典型代表。在先进封装光刻机等领域,微装公司的国内市场占有率超过80%,全球市场占有率为40%。   

3、安泰科技        2020年6月3日公司在互动平台称:公司的钨合金产品用于某型号光刻机设备,是该型号光刻机的关键核心部件,尚属于市场开发阶段。 

4、苏大维格       2019年年报披露:公司是国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商,通过自主研发微纳光学关键制造设备——光刻机,建立了微纳光学研发与生产制造的基础技术平台体系,为客户提供不同用途微纳光学产品的设计、开发与制造服务。

四、国内先进光刻胶材料的公司

1、雅克科技        2020年2月26日,雅克科技公告称,子公司斯洋国际有限公司与 LG CHEM, LTD.(LG 化学)签署《业务转让协议》,以580亿韩元(折合人民币约3.35亿元)购买其下属的彩色光刻胶事业部的部分经营性资产,标的资产主要包括与彩色光刻胶业务相关的部分生产机器设备、存货、知识产权类无形资产、经营性应收账款等。   

2、上海新阳      公司为拓展业务范围及产品应用领域,投资设立控股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司进行193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目。

3、晶瑞股份        公司是一家专业从事微电子化学品的产品研发、生产和销售的高新技术企业,主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。   

4、容大感光     公司的光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品,主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。 

5、南大光电    公司正在自主创新和产业化的 193nm 光刻胶项目,已获得国家 02 专项“ 193nm 光刻胶及配套材料关键技术研究项目”和“ ArF 光刻胶开发和产业化项目”的正式立项,先后共获得财政补贴15,101.65万元,地方配套 5,000 万元。目前“193nm 光刻胶及配套材料关键技术研究项目”的研发工作已经完成,正在等待验收。

6、同益股份      2020年4月11日公司在互动平台称:作为中高端化工及电子材料一体化解决方案提供商,公司先后从韩国引进丙烯酸树脂、KISCO光引发剂、DKC光敏剂以及色浆等产品,主要应用于LCD-TFT正性光刻胶、芯片及半导体行业i/g/h线光刻胶等中高端市场。    

五、科创板光刻机公司

1、安集科技        根据光刻胶下游应用领域不同,公司光刻胶去除剂包括集成电路制造用、晶圆级封装用、LED/OLED用等系列产品。公司产品光刻胶去除剂是用于图形化工艺光刻胶残留物去除的高端湿化学品。光刻胶去除剂一般由去除剂、溶剂、螯合剂、 缓蚀剂等组成,其中关键是去除剂和溶剂的选择,从而获得优异的交联光刻胶聚合物的去除;螯合剂及缓蚀剂等添加剂提供金属及非金属基材分子级、原子级保护,并进行光刻胶残留物选择性去除。公司光刻胶去除剂的核心技术包括光阻清洗中金属防腐蚀技术、光刻胶残留物去除技术。

2、华特气体       公司的光刻气产品包括A/F/Ne、G/e、 Ar/Ne和K/任F/Ne混合气等,4种光刻气均为国内唯一供应商﹐通过全球最大的光刻机公司ASML产品认证。

3、久日新材    2020年6月2日公司在互动平台称:公司正处于研发的项目中有阳离子及光敏剂项目,本项目预计总投资规模9,500,000.00元,截至2019年12月31日,已累计投入金额4,568,996.17元,其中阳离子光引发剂已经完成了小试和中试,光刻胶光敏剂小试开发中。   

4、芯源微   产品包括光刻工序涂胶显影设备(涂胶/显影机、喷胶机)和单片式湿法设备(清洗机、去胶机、湿法刻蚀机)。

六、泛光刻概念

1、普利特  公司控股子公司上海普利特持有理硕科技25%股权。理硕科技位于江苏省苏州市苏州工业园区苏州纳米城,是一家从事平板显示器和半导体芯片用光刻胶及光刻工艺材料研发和生产的高科技企业。企业立足国内,致力于先端光刻工艺技术研究开发,为中国的平板显示器和半导体芯片生产厂家定制开发各种高端电子级化学品。  

 2、江化微   公司主营业务为超净高纯试剂、光刻胶配套试剂等湿电子化学品的研发、生产和销售。  

 3、飞凯材料       公司的光刻胶产品主要目标应用于TFT-LCD行业,产品性能满足行业应用需求  

  4、万润股份        2020年4月27日互动平台称显示:公司积极布局电子化学品领域的聚酰亚胺材料、光刻胶单体材料,进一步丰富公司信息材料产业产品线,为未来发展积蓄动能。公司已有聚酰亚胺材料和光刻胶单体材料相关产品实现销售,相关业务尚处于拓展初期,截止目前对公司业绩不构成重大影响。   

5、广信材料        公司在互动平台回复称公司光刻胶项目研发正在进行中,已经有部分研发成果    

6、怡达股份      公司将开发成膜助剂用以替代光刻胶中的致癌性物质苯乙烯,以减小硬度、脆性及褪膜颗粒,提高光刻胶分辨率。     

7、金力泰       2020年6月9日互动平台回复:超微弧氧化技术可应用于光刻机设备零部件的表面处理与其他半导体芯片集成电路的表面处理上。 

  8、扬帆新材      2020年4月10日互动平台显示:公司内蒙古基地募投项目主要的光引发剂品种包括TPO、184、1173、BDK等。公司部分光引发剂产品下游可应用于光刻胶等相关领域。 

  9、宝通科技      2019年3月13日公司互动平台披露博砚电子为宝通辰韬投资,该公司是一家研发、生产光阻的厂家,主要产品为彩色滤光片用光阻黑色矩阵光阻、感光间隙材料,产品广泛适用于液晶显示屏、印刷电路和集成电路以及印刷制版等。该公司持续技术创新战略,凭借自身雄厚的科研实力,突破本土制造的长期技术瓶颈,已经成功开发出系列光刻胶产品。   

10、捷捷微电     2019年7月26日互动平台回复公司拥有“高粘度光刻胶无胶丝匀胶装置”专利,以及子公司捷捷半导体拥有“一套光刻胶残胶收集装置”。  

11、永太科技       电子化学品方面:永太新材料年产1500吨CF光刻胶项目已进入了项目验收阶段。公司年产60吨OLED电子材料建设项目正在稳步推进中,继续加大在平板显示领域的布局。   

12、强力新材        2018年公司主营业务产品仍以光刻胶专用化学品为主,分为光刻胶用光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂等)和光刻胶树脂两大系列。

13、光华科技        2019年9月25日公司在互动平台称:子公司有正常生产销售光刻胶。

14、京华激光        2020年6月12日,公司在互动平台称:本公司控股公司美国菲涅尔制版科技公司有光刻机的研发与销售。

15、大族激光       2020年6月17日公司在互动平台称:公司在研光刻机项目分辨率3-5μm,主要聚焦在分立器件、LED等领域的应用,今年有望实现小批量销售。