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光刻胶最强龙头,要大规模量产了

行则将至   / 06月11日 21:40 发布

光刻机的国产化正在悄悄取得进展。
据网上流传的消息,国产DUV光刻机已经在某芯的产线上投产,良率约70%左右,预计到年底将优化到90%以上。
另外,使用海外光刻机通过双重曝光生产7nm芯片的技术已经成熟,下半年预计升级至四重曝光的5nm芯片,并在明年向国产DUV设备迁移。
中美科技战从2017年中兴通信被制裁开始,至今不知不觉已经是第8个年头。
8年,原子弹(1956-1964)都研制成功了,光刻机也是时候出成果了。
而在国产光刻机取得突破的同时,光刻胶的好消息也变得越来越多。
比如下面这条消息:
“彤程新材4月30日在官微宣布,部分ArF/ArFi光刻胶产品通过国内芯片厂验证,取得了规模量产订单,已开始批量供货。”
在光刻胶板块里,彤程新材属于后来居上的龙头,而且业绩也很不错。
23年年报,公司归属净利4.0亿元,同比增长36.37%,今年一季度,净利1.4亿元,同比增长74.29%。
表现如此出色,当然不仅是光刻胶的功劳。
实际上,彤程新材的主业是橡胶助剂,也就是橡胶添加剂。
这是一种在橡胶加工的过程中,改善橡胶的耐热、耐寒、耐磨、抗撕裂等性能的特殊化学物质。
根据23年的数据,这块业务贡献了公司22.80亿元的营收,占比77.46%,利润比例更达到了82.41%。
显然,是橡胶助剂产品的热销,带动了公司业绩的向上。
橡胶助剂是一个规模不大的行业,而在这个不显眼的行业里,彤程新材做到了全球第一。
根据业内报告,在最重要的橡胶助剂——轮胎橡胶用酚醛树脂市场上,彤程新材的市场份额接近30%。
图片
橡胶助剂70%以上用在轮胎行业,尤其是特种轮胎,越高端需求量越大。
彤程新材的下游客户主要是各大轮胎企业,包括普利司通、米其林、固特异等国际品牌,以及中策橡胶、赛轮轮胎、玲珑轮胎等国内品牌。
其中最重要的客户,应该是赛轮轮胎,这个特种轮胎龙头近两年业绩大爆发,去年净利润同比增长了132%。
赛轮轮胎的外销比例高达74.16%,主要通过越南、柬埔寨工厂向北美出口,以工程机械轮胎和卡车轮胎为主。
所以,彤程新材的业绩向上,关键还是站在了出海这个风口上。
当然,彤程新材也是个有雄心的企业,它并不满足于守着橡胶助剂这一亩三分田。
它决定进军光刻胶行业。
橡胶助剂和光刻胶,两个东西好像差别很大吧?
为什么一个做橡胶助剂的小企业,会忽然杀进光刻胶行业,两者有什么关系吗?
当然是有关系的。
光刻胶,本质是一种化工材料,主要由感光树脂、增感剂和溶剂组成。
树脂,不仅是光刻胶的核心原料,还决定了光刻胶的关键物理和化学属性,如粘附性、化学抗蚀性和胶膜的厚度。
因此,保证原料尤其是树脂的高品质,对于维持和提升最终光刻胶产品的性能至关重要。
而彤程新材的核心产品就是酚醛树脂,同样是树脂的下游加工产品。
因此在树脂技术的研究上,公司本身已经拥有了深厚的积累,并且上游供应链能够共用,也能大幅降低生产成本。
2020年,公司进行了两笔战略收购:北京科华和北旭电子。
这两个企业,都是国内光刻胶市场上举足轻重的角色。
以北旭电子为例,该公司是国内最大的液晶面板光刻胶本土供应商,在国内最大面板客户京东方的供货占比约50%左右。
而在卡脖子的半导体光刻胶上,北京科华是规模最大,且技术水平最高的那一档。
为什么这么说呢?
1,北京科华是唯一被SEMI列入全球光刻胶八强的中国光刻胶公司,同时还与华为建立了深度战略伙伴关系。
2,在低端的G线和I线光刻胶市场上,公司产品占据了国内较大的市场份额,年产量500吨。
第二的晶瑞电材也只有100多吨,堪称遥遥领先。
3,在中端的KrF光刻胶上,公司是国内唯一有大量供货能力的厂商,有20多款产品,且产能达到了百吨级别。
4,在中高端的ArF光刻胶上,公司已具备量产能力,于24Q1在国内部分芯片企业量产出货并进入逐渐放量阶段。
2023年11月5日,彤程新材公告,公司全资子公司彤程电子在上海化学工业区投资建设的年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目工程阶段已竣工,目前已逐步进入试生产阶段。
这个上海化工区项目,包括了年产300-400吨ArF及KrF光刻胶的量产能力,是国内目前最先进的光刻胶量产生产线。
5,在最高端的EUV光刻胶上,北京科华与中科院联合承担的“国家02专项EUV光刻胶项目”已通过国家验收。
可以看到,无论从市场份额,量产规模,还是高端技术的突破上,北京科华都扮演着领头羊的角色。
现在,它已被彤程新材收归旗下。
虽然光刻胶业务在彤程新材的总营收中占比还比较小,但发展速度是比较快的,营收占比也在上升。
以23年的财报为例,电子材料实现营收5.54亿元,占比18.82%,同比增长44.03%。
2022年,该比例仅为15.38%,一年时间便提升了3个百分点。
随着多款光刻胶产品在今年陆续放量,预计这块业务将渐渐发展成为公司的第二增长曲线,带动公司新一轮的腾飞。
值得注意的是,国内目前的去美化芯片生产线,主要采用了多重曝光技术。
7nm芯片的生产,采用的是双重曝光技术,5nm芯片的生产,预计采用的是四重曝光技术。
这意味着,刻蚀次数的大幅度增加,以及对光刻胶需求的显著增长。来源-君临财富