1.首先我们来了解一下：光刻胶及市场规模

A光刻胶是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X 射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。

光刻胶具有光化学敏感性，其经过曝光、显影、刻蚀等工艺，可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。2018年全球光刻胶及辅助材料销售额分别为17.3亿美元和22.3亿美元，占据半导体原材料总额的5%和7%。

B光刻胶涉及产业链

光刻胶所属产业链覆盖范围广泛，从上游的基础化工材料行业和精细化学品行业，到中游光刻胶制备，再到下游电子加工商和电子产品应用终端。光刻胶是微电子领域微细图形加工核心上游材料，占据了电子材料至高点。

光刻胶国产化率不高，国产替代潜力巨大

根据行业用途，光刻胶分为半导体光刻胶，PCB光刻胶和LCD光刻胶。半导体光刻胶和 PCB光刻胶以及 LCD 光刻胶的构成基本类似，由光刻胶树脂和光引发剂组成。但半导体光刻胶在性能和价格方面远高于其他两类，在LCD光刻胶和PCB领域我国国产化率并不高，半导体光刻胶作为光刻胶中最高端的组成部分，我国本土企业目前仅占有较低的市场份额。

C可用于8寸和12寸晶圆的半导体KrF/ArF光刻胶，国内几乎全进口。

半导体领域光刻胶技术研发寻求突破

根据SEMI数据，随着 12 寸先进技术节点生产线的兴建和多次曝光工艺的大量应用，193nm 及其它先进光刻胶的需求量将快速增加，2019 年，全球半导体光刻胶市场将达到17.7 亿美元。

D半导体光刻胶类型

国内半导体光刻胶技术较国际先进技术差距较大

目前半导体光刻胶市场超过 90% 市场份额被日本住友、信越化学、JSR、TOK、美国陶氏等公司 占据，国内半导体光刻胶技术与国外先进技术差距较大。国际先进技术水平已经可以量产第五代极紫外光刻机用光刻胶，而我国在这一领域尚处在实验室阶段，12寸晶圆制造所用ArF光刻胶尚处在研发阶段，国内仅可小批量供应8英寸晶圆所用KrF光刻胶，通过中芯国际验证。因此，在国家大基金二期扶持产业发展时，半导体材料领域的光刻胶有望获得重点关注。目前我国半导体光刻胶生产和研发企业仅有五家，分别为苏州瑞红（晶瑞股份子公司）、北京科华、南大光电、容大感光、强力新材、上海新阳。

根据科技部 02 专项资料，苏州瑞红承接国家重大科技项目 02 专项“I 线光刻胶产品开发及产业化”，率先在全国范围内实现 I 线光刻胶的量产，目前正胶产能 100 吨/年、厚膜光刻胶产能 20 吨/年，248nm（KrF）光刻胶进入中试阶段；北京科华可实现 I 线光刻胶产能500 吨/年、248nm（KrF）光刻胶产能 10 吨/年，其参与的国家科技重大专项极紫外（EUV）光刻胶项目已通过验收；南大光电拟投资 6.56 亿元，3 年建成年产 25 吨 193nm（ArF 干式和浸没式）光刻胶生产线，该启动项目已获得国家 02 专项正式立项。

国内上市公司：

1、南大光电（300346）：

南大光电持有北京科华微电子31.39%的股权，并直接投资6.55亿元（其中国拨资金1.93亿元、地方配套资金1.97亿元），拟用3年时间建成年产 25 吨 193nm（ArF 干式和浸没式）光刻胶项目。另外，其研发团队阵容目前也是国内屈指可数的一线团队。

2、晶瑞股份（300655）：

2018年年报中，公司的主营业务收入主要来自超净高纯试剂、锂电池粘合剂，其次为光刻胶、功能性材料等产品的销售收入，2018年光刻胶贡献收入84.2亿元，占比仅为10.4%。光刻胶产品由公司的子公司苏州瑞红生产，苏州瑞红规模生产光刻胶20多年，拥有达到国际先进水平的光刻胶生产线，是国内最早规模量产光刻胶的企业之一。苏州瑞红承担并完成了国家02重大专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目，i线光刻胶已向中芯国际、扬杰科技、福顺微电子等客户供货，KrF（248nm深紫外）光刻胶完成中试，产品分辨率达到了0.25~0.13m的技术要求，建成了中试示范线。

3、强力新材（300429）：

公司从事半导体KrF光刻胶用光酸、光酸中间体以及聚合物用单体的生产及销售，光酸中间体已商业化量产，光酸及单体已向主要KrF光刻胶企业认证销售。最新的公司互动表示，目前公司主要产品为光刻胶专用化学品，分为光刻胶用光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂等）和光刻胶树脂两大系列。公司的产品按照应用领域分类，主要有印制电路板（PCB）光刻胶专用化学品（光引发剂和树脂）、液晶显示器（LCD）光刻胶光引发剂、半导体光刻胶光引发剂及其他用途光引发剂（非光刻胶领域使用）等。

4、容大感光（300576）：

公司1.8亿收购高仕电研，标的生产的PCB油墨产品主要是感光阻焊白油；公司LCD、TP用光刻胶，LED用正性光刻胶及life-off光刻胶，I/G线IC用光刻胶等产品处于国内领先地位。

5、上海新阳（300236）

公司主营业务产品为引脚线表面处理化学品、晶圆镀铜、清洗化学品晶圆划片刀，公司在半导体传统封装领域已经成为国内市场的主流供应商。光刻胶领域，公司拥有193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目。ARF193nm光刻胶是芯片制造进入90nm铜互联制程后最重要的主流光刻胶产品，一直是国内空白。研发此款光刻胶意在填补国内空白，实现芯片制造在关键工艺技术和材料技术的自主可控。公司表示，经过近三年的研发，关键技术已有重大突破，已从实验室研发转向产业研发。

6、飞凯材料（300398）

公司自主研发用于 PCB 制造上的 UV 固化的阻焊油墨已小批量销售，用于 TFT 平板显示屏电路制作用光刻胶尚处于研发阶段。

7、安集科技（688019）

公司产品包括不同系列的化学机械抛光液和光刻胶去除剂，主要应用于集成电路制造和先进封装领域。公司光刻胶去除剂包括集成电路制造用、晶圆级封装用、LED/OLED用等系列产品，用于图形化工艺光刻胶残留物去除的高端湿化学品，通过将半导体晶片浸入清洗液中或者利用清洗液冲洗半导体晶片，去除半导体晶片上的光刻胶残留物。公司主要收入来源为化学机械抛光液，但2018年贡献2.05亿元营收（占比为82.78%），较17年的2.08亿元有轻微下滑；光刻胶去除剂业务快速发展，16年仅贡献1942万元，18年达到4205万元，两年实现翻倍。

国内非上市公司：

北京科华：北京科华微电子材料有限公司是一家中美合资企业，成立于2004年，是一家产品覆盖KrF（248nm）、I-line、G-line、紫外宽谱的光刻胶及配套试剂供应商与服务商，也是集先进光刻胶产品研、产、销为一体的拥有自主知识产权的高新技术企业。

科华微电子拥有中高档光刻胶生产基地：2005年，建成百吨级环化橡胶系紫外负性光刻胶和千吨级负性光刻胶配套试剂生产线；2009年5月，建成高档G/I线正胶生产线（500 吨/年）和正胶配套试剂生产线（1000 吨/年）；2012年12月，科华微电子建成248nm光刻胶生产线。

科华微电子产品技术先进，拥有国内或国际专利数项，产品质量稳定，是中芯国际、华润上华、杭州士兰、吉林华微电子、三安光电、华灿光电、德豪光电等行业顶尖客户的稳定合作伙伴。

上市公司南大光电持有公司31.39%的股权，高盟新材持有公司3.67%的股权。

电子行业盈利触底，景气度回升，明年利润率增长将是行业主要看点。外资在今年对于电子板块个股普遍增持。电子行业2020年的机会除了5G手机之外，国产替代亦成为明年的重要看点之一。总体来说电子行业作为大科技的主要领域之一，明年走势将强于市场，由于龙头企业有望率先受益行业复苏回暖以及受益行业集中度提升的优势，投资者重点精选行业龙头。

现在你对光刻胶了解了吗？如果国家大基金二期投资预期的光刻胶这一块会出现几只牛股？你觉得涨的最多的会是哪只呢？（仅供参考）